荷蘭ASML公司是目前全球唯一EUV光刻機供應商，7nm制程工藝的芯片都要使用ASML的設備，現在他們又帶來了一項全新的設備，適用于5nm及更先進
荷蘭ASML公司是目前全球唯一EUV光刻機供應商，7nm制程工藝的芯片都要使用ASML的設備，現在他們又帶來了一項全新的設備，適用于5nm及更先進的工藝，提升生產效率。
相比單個電子束檢查工具，eScan1000擁有九個光束，可讓產能提升600%。
日前，ASML宣布，已完成第一代HMI多光束檢測機HMI eScan1000的系統集成和測試，可用于5nm及更先進的工藝，
包括一個電子光學系統，該系統能夠創建和控制多個一次電子小束，然后收集和處理所產生的二次電子束，將電子束與電子束的串擾限制在2％以下，并提供一致的成像質量。
據悉，eScan1000是基于HMI多光束技術的檢測系統，
同時它還具有一個高速平臺以提高系統的整體吞吐量，以及一個高速計算架構來實時處理來自多個電子束的數據流。從而實現物理缺陷檢查和電壓對比檢查，減少晶圓質量分析所用的時間。
eScan1000擁有專門的芯片，用以檢測數據庫缺陷檢測功能，使得芯片制造商能夠使用晶圓打印檢查來監視EUV的缺陷，
此外，這一點在單束解決方案上需要大量時間，而多個電子束很快就能完成。
目前第一個eScan1000已于本周交付客戶進行測試驗證，未來還會推出大量多光束測試設備滿足客戶對先進工藝的需求。
關鍵詞： 全新半導體技術
