在半導體生產中，光刻機是核心設備，不僅決定了芯片制造的工藝水平，也是耗時最多、成本最高的一步，目前先進的7nm、5nm及接下來的3nm都需
在半導體生產中，光刻機是核心設備，不僅決定了芯片制造的工藝水平，也是耗時最多、成本最高的一步，目前先進的7nm、5nm及接下來的3nm都需要EUV光刻機，一臺售價將近10億人民幣，目前還是供不應求。
EUV光刻機目前只有荷蘭ASML公司可以生產，他們的產能將決定全球先進工藝擴張的速度，日前ASML公司高級副總裁Christophe Fouquet在高盛會議上確認，將增加EUV光刻機的產能。
他們原本預計在2025年的時候EUV年產能是70臺，現在決定提升到每年90臺，有助于緩解產能不足的問題。
今年Q2季度還沒結束，ASML公司就收到了超過100臺EUV光刻機的訂單，這已經大大超過了他們的產能，今年該公司計劃出貨EUV光刻機不過55臺，只能滿足一半的訂單量，客戶都要排隊等待。
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